先进的EUV光刻机，目前仅有ASML能够研发制造，但早就被瓦森纳协定限制出货。
去年底，美日荷又签订了三方协议，限制日本出货23种半导体产品，也限制荷兰出货主流的DUV光刻机等设备。
由于ASML一半的营收都来自DUV光刻机，中国又是全球最大的芯片消费市场，荷兰表示虽然美限制先进光刻机出货，但仍将出货部分型号的光刻机。
(资料图)
ASML也表示中国市场至关重要，将分配更多产能给中国厂商，向中国出货更多光刻机。
近日，ASML再出手。
ASML中国总监称，今年ASML中国开放共计200余个岗位，覆盖整体光刻解决方案下的光刻机、计算光刻和量测业务。
包括客户支持工程师、软件开发工程师及职能部门等职位。
最主要的是，荷兰巨头宣布在中建厂。
消息称，荷兰知名半导体巨头KMWE，也是ASML的上游供应商，其计划在中国建设一座新工厂，新公司将生产与马来西亚一样的产品，但专门面向中国市场。
对于在中国建设新工厂，KMWE主管表示，如果中美没有芯片之争，我们可能就不会这么做。言外之意就是避免芯片规则，从而继续向中国出货更多光刻机设备所需的元器件。
因为美从去年10月底，就进一步修改规则，限制相关半导体设备厂商出货，KMWE和贝思半导体等厂商都受到了影响。
ASML和荷兰巨头的消息传来后，就有外媒表示光刻机局面变了。
首先，美想通过三方协议限制ASML出货更多光刻机，但荷兰和ASML都明确表示，将会继续出货部分光刻机。
在这些产品中，包含 1980i型号的DUV光刻机，在多种曝光工艺下，可将芯片制程缩小至7nm,如果不是嫌成本高、工艺复杂，还能够用于5nm工艺。
如今，ASML加大在国内市场布局，结果可想而知。
其次，ASML虽然是光刻机巨头，也是唯一一家能够生产制造EUV光刻机的厂商，但其技术和元器件来自全球数百家供应商。
KMWE就是ASML的供应商之一，其计划在中国建厂，规避政策，从而向中国出货更多光刻机所需要的元器件，这必然促进国产光刻机技术的发展。
要知道，国内光刻机相关技术不断突破，上海微电子28nm精度的光刻机取得了技术验证，中科院突破EUV相关光源技术等。
最后，ASML加速向中国出货，并加大在国内市场布局，也是因为国产光刻机进步太快，导致ASML在国内市场份额从22%降至8%。
三方协议签订后，ASML透露6月底前仍能继续出货主流DUV光刻机等设备，但并没国内厂商购买更多设备的消息。
再结合ASML在国内市场份额下滑，从可以看来，光刻机局面已经变了。
一方面是ASML加速向中国出货，荷兰光刻机元器件巨头计划在中国建厂，其实都是想获得更多市场；
另一方面是国产光刻机技术突破很快，国内厂商纷纷选择国产设备，否则，ASML在国内市场也不会大幅度下滑。
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